增層HDI板層間絕緣厚度
增層HDI板設(shè)計(jì)準(zhǔn)則中最基本的項(xiàng)目是層間絕緣層厚度。利用光蝕刻制程所能形成的開孔尺寸是傳統(tǒng)機(jī)械鉆孔的數(shù)分之一。如果層間絕緣層厚度越薄,則利用光蝕刻所能達(dá)到的開孔尺寸越小。不過必須注意的是如果絕緣層厚度太薄時(shí)有可能會(huì)因?yàn)殂~的擴(kuò)散而造成線路可靠性的問題?;谏鲜龇N種因素,一般將X和Y方向訊號(hào)線間的絕緣層厚度設(shè)定在40um左右。

決定層間絕緣厚度之后,其次必須決定導(dǎo)線層到接地層之間的距離,SLC開發(fā)初期的印刷電路板線寬一般為100um,為了維持特性阻抗在500Ω左右所以絕緣層厚度設(shè)定為80um。由早期SLC的橫截面照片可以看到FC1和FC2之中分別具有XY導(dǎo)線層和栓孔,F(xiàn)C2到FC3之間的絕緣層厚度為80um而且栓孔孔徑很大。FC1和FC2間FV1的栓孔孔徑為125um而FC2和FC3間FV2的栓孔孔徑則為200um。由于FC1與FC2離接地層更遠(yuǎn),為了維持固定的特性阻抗所以必須增加FC1的導(dǎo)線線寬。由圖1.8的X光照片可以看出有一邊的線寬明顯增加很多。
隨著后來制程技術(shù)的發(fā)展,所能達(dá)到的線寬尺寸越來越小而且不同應(yīng)用所要求的電性也不相同,因此雖然目前設(shè)計(jì)上所使用的FV1和FV2的厚度不同但是如果特別要求特性阻抗的精度時(shí),如GHz的高頻設(shè)計(jì)時(shí),在設(shè)計(jì)上便會(huì)盡量選用相同厚度的絕緣層。在實(shí)際設(shè)計(jì)上由于改變線寬設(shè)計(jì)的彈性較大,因此會(huì)借由改變線寬大小來符合不同產(chǎn)品設(shè)計(jì)所需要的特性阻抗。
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最新產(chǎn)品
通訊手機(jī)HDI
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型號(hào):GHS08K03479A0
階數(shù):8層二階
板材:EM825
板厚:0.8mm
尺寸:144.08mm*101mm
最小線寬:0.075mm
最小線距:0.075mm
最小孔徑:0.1mm
表面處理:沉金+OSP
通訊手機(jī)HDI
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型號(hào):GHS06C03294A0
階數(shù):6層二階
板材:EM825
板厚:1.0mm
尺寸:92mm*118mm
最小線寬:0.075mm
最小線距:0.075mm
最小孔徑:0.1mm
表面處理:沉金
通訊模塊HDI
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型號(hào):GHS04K03404A0
階數(shù):4層一階+半孔
板材:EM825
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尺寸:94.00*59.59mm
最小線寬:0.076mm
最小線距:0.076mm
最小孔徑:0.1mm
表面處理:沉金+OSP
5G模塊PCB
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型號(hào):HS10K21632A0
層數(shù):10層
板材:生益 S1000-2
板厚:1.6+/-0.16mm
最小孔徑:0.102mm
最小線寬:0.102mm
表面處理:沉鎳金+OSP
P1.5顯示屏HDI
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型號(hào):GHS04C03605A0
層數(shù):4層一階
所用板材:EM825
板厚:1.6mm
尺寸:24mm*116mm
最小盲孔:0.1mm
最小埋孔:0.2mm
最小線寬:0.13mm
最小線距:0.097mm
表面處理:沉金
外形公差:+0.05/-0.15mm(板內(nèi)無定位孔)
特殊要求:燈窩間距:P1.5
P2.571顯示屏HDI
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型號(hào):GHS04C03429A0
階層:4層一階
板材:EM825
板厚:1.6mm
尺寸:215.85mm*287.85mm
最小盲孔:0.1mm
最小埋孔:0.2mm
最小線寬:0.152mm
最小線距:0.152mm
表面處理:沉金
外形公差:+/-0.15mm(板內(nèi)無定位孔)
特殊要求:控深鉆帽子電鍍間距:P2.571
P1.9顯示屏HDI
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型號(hào):GHM08C03113A0
階層:8層一階
板材:EM825
板厚:1.6mm
尺寸:239.9mm*239.9mm
最小盲孔:0.1mm
最小埋孔:0.2mm
最小線寬:0.127mm
最小線距:0.127mm
表面處理:沉金
外形公差:+0.05/-0.15mm(板內(nèi)無定位孔)
特殊要求:控深鉆間距:P1.9
P1.923顯示屏HDI
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